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2025届"武鸣高中-贵百河"高三4月联考测试历史答案xb

[db:作者] 文档 2025-04-05 13:32:22 0
2025届"武鸣高中-贵百河"高三4月联考测试历史答案xb

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13. 中国芯片蚀刻技术国际领先。NF3进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体,在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观示意图如图,下列说法正确的是( )
结构观:物质丁由2个原子构成
B. 守恒观:反应前后原子和分子的数目均没有增减
C. 定量观:反应中甲和丁质量比为3:2
D. 物质丁在空气中的质量分数为78%
14.学习了金属活动性后,小华以丙为“数轴”的原点将活动性顺序中的金属分为两部分(如图)。下列说法错误的是
A.小华选择的原点丙是H


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