永州市2025年高三高考第三次模拟考试(永州三模)英语试题xb

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D.氢氟酸雕刻玻璃发生的离子反应：4H+4F+SiO2=S证个+2H,O
6.工业上采用Si与HCI在350C左右反应生成SiHCI,,之后将其还原、结晶得到高纯度的
单晶硅产品。已知SiHCI,的熔点为-128℃，沸点为33℃，且遇0，和H,0均刷烈反应。现要
在实验室中制取少量$HCl,其实验装置如下图所示，则下列说法正确的是()
浓H2SO4
粗硅
碱石灰

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