2024-2025学年上海市浦东新区三一模化学试卷（含答案）

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1、562025 浦东一模浦东一模高三化学试卷考生注意：考生注意：1试卷满分 100 分，考试时间 60 分钟。2本考试分设试卷和答题纸。答题前，务必在答题纸上填写学校、姓名、座位号（考号），并将核对后的条形码贴在指定位置上。作答必须涂或写在答题纸上，在试卷上作答一律不得分。3本试卷标注“不定项”的选择题，每小题有 12 个正确选项，只有 1 个正确选项的，多选不给分，有 2 个正确选项的，漏选 1 个得一半分，错选不得分；未特别标注的选择题，每小题只有 1 个正确选项。相对原子质量：C12Si28一、蚀刻工艺蚀刻是半导体制造工艺中的重要步骤，其原理是通过物理或化学方法对材料（如 Al、Si 等）

2、进行选择性的去除，蚀刻分为干法蚀刻和湿法蚀刻，Cl2和 BCl3是干法蚀刻 Al 时常用的氯基气体。1蚀刻铝时发生了 Cl2和 Al 的反应，这说明 Cl2具有_。A酸性B可燃性C氧化性D漂白性2蚀刻铝时的生成物之一 AlCl3可作净水剂，原因是它溶于水能形成 Al(OH)3胶体，下列关于 Al(OH)3胶体的认识，错误的是_。A可以产生丁达尔现象B可以透过半透膜CAl(OH)3胶体呈电中性D可以吸附水中的悬浮颗粒物3已知硼是第 2 周期 IIIA 族的元素，下列关于硼的说法正确的是_。（不定项）A非金属性：硼碳B最高价氧化物对应水化物酸性：硼氯C原子半径：硼氮D最高正化合价：硼铝4三甲基胺合

3、三氯化硼（化学式为 BCl3C3H9N）在液晶领域的应用广泛。该化合物中提供空轨道形成配位键的原子是_。A氢B硼C碳D氮三甲基胺的结构简式为_，已知其中碳元素的化合价为2 价，从共用电子对偏移的角度解释原因。_硝酸和氢氟酸是湿法蚀刻单晶硅的重要试剂。5某次蚀刻中，产生了相同物质的量的 NO 和 NO2，配平此条件下的化学方程式：_Si_HNO3_HF _H2SiF6_NO_NO2_H2O若反应过程中转移了 3 mol 电子，则理论上可蚀刻 Si_ g。实际生产中，收集到的气体体积小于理论值，可能的原因有_(任写一条)。二、碳酸氢铵的制备和性质我国化工专家侯德榜的“碳化法合成氨流程制碳酸氢铵”的

4、工艺，曾被国家科委审定为重大发明。该反应的基本原理是：NH3CO2H2ONH4HCO3。571合成氨工业中使用的催化剂主要含有 Fe2O3和 FeO，这两种化合物都_。（不定项）A是碱性氧化物B具有磁性C是红棕色固体D可被 CO 还原2下列关于合成氨工业的描述中，错误的是_。A可用 CH4为原料制取 H2B实际生产中维持氢氮比为 2.82.9C合成塔中通过热交换器提高能效D通过溶于水的方法分离产生的 NH3实验室为模拟生产 NH4HCO3，利用右图实验装置制备原料气体。3用该装置制备 CO2时，若 X 中固体为大理石，Y 中液体为稀盐酸，则反应的离子方程式为_。为除去 CO2中混有的少量 HC

5、l，可将混合气体通过盛有饱和_溶液的洗气瓶。ANa2CO3BNaHCO3CNaHSO3DNaOH4用该装置制备 NH3时，若 Y 中液体为浓氨水，X 中固体为生石灰，解释产生 NH3的原因_。为探究 NH4HCO3溶液与少量 NaOH 溶液反应时的原理，明确 OH与 NH4、HCO3反应时，是否存在“先后”关系，进行如下探究。常温下，取 10.00 mL 0.10 molL1的 NH4HCO3溶液于锥形瓶中，向其中逐滴滴入10.00 mL0.20 molL1的 NaOH 溶液，记录过程中溶液 pH 的变化，转换成溶液中 HCO3、NH4的浓度，结果如图 1。5分析图 1 中数据，可以得出的实验

6、结论有_（任写两点）。6当 VNaOH10.00 mL 时，测得溶液 pH10.06，此时混合体系中各离子浓度由大到小的顺序为_。7若改用 10.00 mL 0.10molL1的 Ba(OH)2溶液代替 NaOH 溶液完成上述实验，溶液中的离子浓度变化情况如图 2 所示，解释图 2 中 c(NH4)和 c(HCO3)的变化曲线与图 1 存在差异的原因。_三、含碳的物质和材料含碳的物质和材料广泛地应用于生产生活和科学研究中，人工合成金刚石的两种方法所涉反应如下：4NaCCl44NaClC；4Na3CO22Na2CO3C。1上述反应所涉及的元素中，第一电离能最小的是_。A钠B碳C氯D氧2若碳原子核外电子排布有 A（1s22s12p3）和 B（1s22s22p2）两种状态，由 A 状态到 B 状态时能量_。58A升高B降低C不变3NaCl 的电子式为_。每个 CCl4和 CO2分子中键的个数比为_。2024 年 自然 杂志上报道了一种含有碳碳单电子键的化合物，其化学式为 C38H30I3，丰富了经典化学键理论。该物质的结构如下图，虚线和圆点表示仅有 1 个共用电子的键。（其中：Ph 表示苯基